一種導電膜氣離式刻蝕工藝
- 專利號:2021105561657 類型:發明專利 瀏覽:42次 發布時間:2025-12-19
本發明公開了一種導電膜氣離式刻蝕工藝,屬于刻蝕技術領域,本發明可以通過在蝕刻油墨中摻入多個氣離微球,并在導電膜下方間歇性施加磁場,迫使氣離微球間歇性的對蝕刻油墨進行擠壓,使得蝕刻油墨與導電膜充分接觸進行蝕刻,然后對蝕刻油墨進行加熱烘干,同時觸發氣離微球釋放氣體的動作,使得氣體填充至縫隙中有助于蝕刻油墨的剝離,降低蝕刻油墨成膜后的剝離強度,伴隨著氣體的釋放,磁性物質也會充斥于蝕刻油墨的縫隙中,再將磁場轉移至導電膜上方,依靠對磁性物質的磁吸作用下,從而對膜產生均勻的多點剝離力,加速膜的剝離,不僅剝離簡單,不易出現殘留現象,同時可以避免對導電線路造成損傷。
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